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半导体材料

化腐片

化腐片简介

酸腐片以其较低的粗糙度项版偏,较好的光泽度串且观,相对较低的成本浪,在一些领域逐渐开始直接使用酸腐片替代成本相对高抛光片或外延片制备电子器件稿,以降低成本袜妊。产品品种有低粗糙度酸腐片艇,低反射率酸腐片伴榷、高反射率酸腐片等谷乖。

主要应用于二/三极管坦病蓟、晶闸管湾痊狼、TVS产品勾牢布、IGBT汕踏恳、高效太阳能电池片等程敛邯。

 

化腐片的主要规格

FZ化腐片规格

FZ etching wafers Specifications

品种

导电

类型

晶向

直径范围(mm)

电阻率范围(Ω.cm )

几何参数蒋、颗粒度

及表面金属

本征及超高阻区熔硅抛光片(FZ)

N&P

<100>&<111>

76.2-200

>1000

T180(μ m)

TTV2(μ m)

TIR2(μ m)

反射率最高可达90%

中子辐照区熔硅抛光片(NTDFZ

N

<100>&<111>

76.2-200

30-800

直拉区熔硅抛光片(CFZ

N&P

<100>&<111>

76.2-200

1-50

气相掺杂区熔硅抛光片(GDFZ

N&P

<100>&<111>

76.2-200

0.001-300

 

CZ化腐片规格

CZ etching wafers Specifications

品种

导电

类型

晶向

直径范围(mm)

电阻率范围(Ω.cm)

几何参数淌拆厩、颗粒度

及表面金属

磁场直拉硅抛光片(MCZ

N&P

<100>

<110>&<111>

76.2-200

1-300

T180(μ m)

TTV2(μ m)

TIR2(μ m)

反射率最高可达90%

直拉硅单晶抛光片(CZ

N&P

<100>

<110>&<111>

76.2-200

1-300

磁场直拉重掺硅抛光片

N&P

<100>&<111>

76.2-200

0.001-1

 

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